La sorgente Cold Field Emission è ideale per l'imaging ad alta risoluzione grazie alle dimensioni ridotte della sorgente e alla diffusione dell'energia. L'innovativa tecnologia della pistola CFE contribuisce a creare il FE-SEM definitivo con una luminosità e una stabilità del fascio superiori, consentendo l'imaging ad alta risoluzione e l'analisi elementare di alta qualità.
Per consentire un'acquisizione stabile dei dati ai massimi livelli di prestazioni dello strumento, l'SU9000II offre nuove funzionalità che rendono automatiche le regolazioni del sistema ottico e il nuovo pacchetto software EM Flow Creator come opzione per rendere automatica l'acquisizione dei dati, in particolare la raccolta di dati sequenziali.
Inoltre, l'esclusivo design del sistema ottico offre una capacità di EELS per l'analisi avanzata dei materiali.
L'SU9000 è il nuovo SEM premium di HITACHI. È dotato di un'ottica elettronica unica, con il campione posizionato all'interno di uno spazio tra la parte superiore e quella inferiore dell'asta dell'obiettivo. Questo cosiddetto concetto "true in-lens", combinato con la tecnologia di emissione a campo freddo di nuova generazione di HITACHI, garantisce la massima risoluzione del sistema (risoluzione SE 0,4 nm a 30 kV, 1,2 nm a 1 kV senza tecnologia di decelerazione del fascio [0,8 nm con decelerazione del fascio]) e la massima stabilità.
Per rendere questo potere risolutivo utilizzabile nelle applicazioni pratiche del vostro laboratorio, l'SU9000 utilizza uno stadio di campionamento a ingresso laterale ultra-stabile simile a quello dei sistemi TEM di fascia alta e incorpora uno smorzamento delle vibrazioni ottimizzato e un cabinet chiuso per schermare le ottiche elettroniche dal rumore ambientale.
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