Unità di esposizione a flusso UV 2000AF

con dispositivo di pulizia dei bordi

I sistemi di esposizione OAI Modello 2000 possono essere configurati sia come un sistema di esposizione perimetrale (2000SM) che come un sistema di esposizione alluvionale (2000AF); entrambe le configurazioni sono basate sulla piattaforma collaudata e testata nel tempo di OAI. Entrambe le versioni del sistema di esposizione modello 2000 includono una sorgente di luce UV, un'alimentazione di controllo dell'intensità e un sottosistema di manipolazione robotizzata del substrato. Le fonti di luce UV forniscono fasci di intensità regolabile con semiangoli di divergenza di <2,0%. Gli alimentatori sono disponibili da 200W a 2.000W. I sensori di controllo dell'intensità sono collegati direttamente alla sorgente luminosa per un accurato monitoraggio dell'intensità. Il sistema robotizzato di manipolazione del substrato è controllato da un microprocessore e può essere programmato per accogliere un'ampia varietà di dimensioni del substrato. La capacità della maschera d'ombra permette all'utente di modellare la parte superiore di un substrato mentre è tenuto in prossimità della maschera. Con una separazione di 25 micron, questi sistemi sono capaci di una risoluzione di 6 micron. Nella configurazione SM, il sistema di esposizione del bordo-bead fornisce un metodo economico per la rimozione del bordo-bead usando la tecnologia standard della maschera d'ombra. La sostituzione della maschera e del substrato può essere effettuata rapidamente e facilmente aggiungendo sia la versatilità che il rendimento di questo strumento di produzione ad alto volume. Nella configurazione AF, il sistema di esposizione all'inondazione Modello 2000 viene utilizzato per aumentare e/o migliorare i processi fotolitografici sia in ambienti di produzione che di ricerca e sviluppo. Le applicazioni includono la stabilizzazione e la modifica della fotoresistenza, l'inversione dell'immagine e i processi PCM.