Sistema di litografia per l'industria dei semiconduttori JetStep® G45

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Caratteristiche

Tipo
per l'industria dei semiconduttori

Descrizione

Il sistema JetStep G45 risponde alle esigenze del settore dei display mobili. Basato sulla consolidata tecnologia stepper, il sistema combina prestazioni ottimizzate e costi di gestione superiori. Panoramica del prodotto Il sistema JetStep G45 è dotato di ottiche da 200 mm. L'ottica a bassa distorsione, combinata con movimenti di precisione ad alta velocità, consente al sistema di ottenere una sovrapposizione di <0,5μm. L'ottica di ingrandimento del sistema JetStep G45 consente l'uso di un reticolo (maschera) da 6 pollici, riducendo significativamente i costi di attrezzaggio rispetto alle tecnologie concorrenti. Inoltre, il sistema ha un ingombro ridotto, minimizza i costi di impianto e i suoi movimenti senza attrito riducono l'usura e i costi di manutenzione. I risparmi combinati si traducono in un processo di produzione conveniente, con un CAPEX ridotto e un basso costo di proprietà (COO). Specifiche tecniche - Lente di proiezione e sistema di illuminazione ad alta fedeltà per una risoluzione fino a 1,5µm - Formato del reticolo da 6 pollici standard del settore per una produzione efficiente dal punto di vista dei costi - Controllo automatico dell'ingrandimento per aumentare la finestra di processo - Sistema di gestione del reticolo a bordo per garantire il massimo utilizzo - Pacchetto metrologico a bordo per la calibrazione in situ - Messa a fuoco automatica al volo in ogni sito di esposizione per regolare automaticamente la messa a fuoco in base alla topologia del pannello - Diagnostica a bordo che fornisce un feedback sulle prestazioni del sistema e sulla risoluzione dei problemi

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