Per la produzione di cliché in fotopolimero sviluppabili ad acqua
• Unità complete di sviluppo automatico per ottenere la migliore uniformità d’incisione.
• 3 modelli differenti per soddisfare ogni esigenza di formato.
• Pannello di comando con computer a 9 canali per controllare tutte le fasi di produzione
di un cliché.
• Progettate e prodotte specificatamente per cliché in fotopolimero per tampografia TIPO XRA
(sviluppo ad acqua).
Computer a 9 canali che controlla tutte le fasi di lavorazione:
- Tempo d’esposizione principale
- Temperatura di lavaggio
- Tempo lavaggio
- Temperatura del dryer
- Tempo di post esposizione
Unità di esposizione dotata di piano aspirante, che, grazie all’elevato numero di lampade,garantisce una copertura
dei vari formati perfettamente uniforme. Esposizione tale da garantire una maggiore quantità d’inchiostro nell’incisione
per una migliore tenuta del punto nelle percentuali più basse.
Sistema di sviluppo ad acqua in vasca di acciaio inox, tramite il movimento orbitale di una piastra porta cliché,
ed un modulo di spazzole regolabili in altezza.
Unità di essiccazione composta da due cassetti per il modello 370 e tre per i modelli 520 e 760.
Accesso e svolgimento di tutte le funzioni dal lato frontale.