Pompa a vuoto a membrana MD 4C NT

senza olioa tre stadiper gas

Le pompe a membrana a tre stadi di progettazione chimica sono una soluzione eccellente per il pompaggio continuo e senza olio di gas e vapori corrosivi e soddisfano anche i requisiti più difficili. Il design a tre stadi offre una combinazione vantaggiosa di alta velocità di pompaggio e vuoto finale molto basso. Tutte le parti dell'MD 4C NT a contatto con i fluidi pompati sono realizzate in fluoroplastica chimicamente resistente. I collaudati diaframmi a sandwich in PTFE garantiscono una maggiore affidabilità e una maggiore durata operativa. Grazie alla valvola di zavorramento del gas e all'ottimo vuoto finale (anche con zavorramento del gas), l'MD 4C NT è adatto anche al pompaggio di vapori condensabili di solventi altobollenti. Le pompe a membrana a tre stadi di progettazione chimica sono una scelta eccellente per le applicazioni con gas e vapori corrosivi con requisiti di vuoto elevati. Le applicazioni tipiche sono gli evaporatori paralleli e rotativi, i concentratori, i forni di essiccazione e molte altre applicazioni di laboratorio. L'MD 4C NT ha prestazioni eccezionali per il pompaggio di grandi quantità di vapore, ad esempio, dai forni di essiccazione e dagli essiccatori di gel. Questa potente pompa è il cuore di una famiglia completa di sistemi di vuoto e unità di pompaggio affidabili e collaudati per applicazioni di laboratorio di grandi dimensioni. Caratteristiche delle prestazioni eccezionale resistenza chimica e superiore tolleranza ai vapori prestazioni eccezionalmente elevate anche a basso vuoto eccellente vuoto finale anche con zavorra di gas silenzioso e a bassissime vibrazioni lunga durata del diaframma, sistema di azionamento esente da manutenzione