Riduzione efficace degli ioni metallici fino a <50ppt
Capacità superiore rispetto ai depuratori a membrana
Percorso tortuoso con elevata area superficiale interna della matrice 3M™
La profondità del supporto 3M™ aumenta il tempo di permanenza del fluido IX rispetto ai depuratori a membrana
La matrice fissa del supporto impedisce la canalizzazione del prodotto chimico
le cartucce filtranti 3M™ Metal Ion Purifier serie SCP aiutano a ridurre la contaminazione da ioni metallici nella fotoresistenza e in altri prodotti chimici ad alta purezza nel settore della microelettronica.
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