I filtri a film sottile Dichroic ultrapiatto di Alluxa presentano una planarità del 95% senza necessità di compensazione posteriore
Questi filtri sono unici perché raggiungono la planarità eliminando le elevate sollecitazioni del tradizionale processo di rivestimento as-depositato a base ionica come Ion Beam Sputtering (IBS) e Ion Assisted Deposition (IAD). La nuova tecnica Alluxa utilizza un nuovo processo di rivestimento duro al plasma che produce film dielettrici a bassa perdita, completamente densi e con tensione netta zero sul lato primario rivestito. A causa di questo processo, i film non richiedono il lungo tempo di rivestimento aggiuntivo della compensazione posteriore standard del settore o l'uso di substrati molto spessi e costosi.
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