Anello di tenuta di precisione

su misurain FKM

Panoramica del prodotto
Anelli O in FKM (fluoroelastomero) e FFKM (perfluoroelastomero) progettati per processi di semiconduttori, incluse incisione plasma, CVD/ALD, movimentazione wafer e sistemi a vuoto. Progettati per resistenza chimica, prestazioni ad alte temperature e ultra-bassa emissione di gas per soddisfare i requisiti di sala pulita e alto vuoto.

O-ring FKM (fluoroelastomero):

• Campo di temperatura: -20°C a +200°C (a breve termine fino a 250°C)
• Resistenza chimica: acidi, solventi, oli, ozono
• Durezza (Shore A): 70–90
• Resistenza al set di compressione: eccellente per tenute statiche
• Emissione di gas: bassa
• Applicazioni tipiche: incisione umida, movimentazione wafer, tenute sub-fab

O-ring FFKM (perfluoroelastomero):

• Campo di temperatura: -10°C a +300°C (grado selezionati fino a 327°C)
• Compatibilità chimica: resistente ad acidi forti, ammine, solventi e gas plasmatici comuni (CF4, NF3, Cl2, HF, O3)
• Durezza (Shore A): 70–90
• Emissione di gas: ultra-bassa, adatta ad alto vuoto
• Resistenza al plasma: eccezionale
• Applicazioni tipiche: incisione plasma, CVD, ALD, impianto ionico, camere a vuoto

Produzione e capacità

• Stampaggio senza flash e senza bave
• Produzione in ambienti puliti certificati ISO
• Imballaggi compatibili con sala pulita
• Capacità produttiva su larga scala per ordini in stock e JIT
• Formulazioni personalizzate e prototipazione per requisiti specifici degli strumenti

Applicazioni nella produzione di semiconduttori

• Sistemi di incisione plasma e ashing
• Deposizione chimica da vapore (CVD)
• Deposizione a strati atomici (ALD)
• Strumentazione per incisione secca e umida
• Caricatori e camere di carico sotto vuoto
• Hardware per trasferimento e movimentazione dei wafer
• Attrezzature sub-fab e tenute
• Attrezzature CMP e litografia

Disponibilità

• Dimensioni standard: O-ring AS568, JIS e metrici disponibili a stock
• Dimensioni personalizzate: Disponibili su richiesta con tempi di consegna ridotti
• Ordini in grandi quantità: Supportati con produzione scalabile e spedizioni globali

Perché sceglierci

• Competenza consolidata in soluzioni elastomeriche ad alta purezza per strumenti per semiconduttori
• Controllo qualità rigoroso con produzione certificata ISO
• Supporto logistico globale per consegne just-in-time
• Supporto tecnico per selezione dei materiali e progettazione applicativa
• Prezzi competitivi e servizio tecnico reattivo
• Strutture interne per attrezzature, stampi e progettazione

Specifiche tecniche

• Materiali: FKM (fluoroelastomero) e FFKM (perfluoroelastomero)
• Intervalli di temperatura: FKM -20°C a +200°C (a breve termine fino a 250°C); FFKM -10°C a +300°C (fino a 327°C in alcuni gradi)
• Resistenza chimica: FKM — acidi, solventi, oli, ozono; FFKM — acidi forti, ammine, solventi e gas plasmatici comuni (CF4, NF3, Cl2, HF, O3)
• Durezza (Shore A): tip. 70–90
• Emissione di gas: FKM bassa; FFKM ultra-bassa, adatta ad alto vuoto
• Resistenza al plasma: FFKM eccezionale
• Generazione di particelle: bassa, compatibile con processi semiconduttori ultra-puliti
• Produzione: stampaggio senza flash e senza bave in ambienti di produzione certificati ISO
• Imballaggio: compatibile con sala pulita
• Dimensioni: AS568, JIS, metrici; dimensioni personalizzate disponibili; supporto per ordini in grandi quantità