Ruota abrasiva
Aggiungi ai preferiti
Confronta con altri prodotti
Vuoi acquistare direttamente?
Vai sul nostro Shop.
Descrizione
La Lucidatura Chimica Meccanica (CMP) aiuta le superfici lisce dei wafer, una parte importante della produzione VLSI (Very Large-Scale Integration). Il condizionamento è essenziale per assicurare una macinazione CMP stabile. Asahi Diamond offre una varietà di condizionatori CMP per adattarsi alle diverse forme e specifiche dei wafer.
---
Cataloghi
Nessun catalogo è disponibile per questo prodotto.
Vedi tutti i cataloghi di ASAHI Diamond
Ricerche correlate
- Ugello per liquidi
- Ugello in acciaio inossidabile
- Ugello a getto singolo
- Ugello per pulizia
- Disco abrasivo
- Mola di trattamento superficiale
- Mola cilindrica
- Ugello per acqua
- Mola di rettifica
- Mola diamantata
- Ugello di vernice
- Mola piatta
- Mola CBN
- Ugello per applicazioni di precisione
- Pasta per lucidatura
- Disco abrasivo di pulizia
- Mola di taglio
- Mola di finitura
- Mola periferica
- Pasta lucidatrice
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.