Ruota abrasiva

Ruota abrasiva - ASAHI Diamond
Ruota abrasiva - ASAHI Diamond
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Descrizione

La Lucidatura Chimica Meccanica (CMP) aiuta le superfici lisce dei wafer, una parte importante della produzione VLSI (Very Large-Scale Integration). Il condizionamento è essenziale per assicurare una macinazione CMP stabile. Asahi Diamond offre una varietà di condizionatori CMP per adattarsi alle diverse forme e specifiche dei wafer.

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Cataloghi

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Fiere

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ELECTRONICA 2026
ELECTRONICA 2026

10-13 nov 2026 Munich (Germania) Hall B1 - Stand 110

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    * I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.