Ruota abrasiva

Ruota abrasiva - ASAHI Diamond
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Descrizione

La Lucidatura Chimica Meccanica (CMP) aiuta le superfici lisce dei wafer, una parte importante della produzione VLSI (Very Large-Scale Integration). Il condizionamento è essenziale per assicurare una macinazione CMP stabile. Asahi Diamond offre una varietà di condizionatori CMP per adattarsi alle diverse forme e specifiche dei wafer.

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Cataloghi

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