La Panel Plating Line (PPL) di Meco elettrodeposita uno strato sub-micronico di rame, indio e gallio su un substrato di vetro per formare gli strati assorbenti di una cella solare a film sottile CIGS. La deposizione elettrochimica offre numerosi vantaggi rispetto alle tecniche di deposizione sottovuoto: un utilizzo efficiente quasi al 100% dei metalli Cu, In e Ga, nessuna condizione di vuoto richiesta, un ingombro ridotto e minori requisiti di struttura! Per sviluppare ulteriormente celle solari CIGS ad alta efficienza mediante deposizione elettrochimica di Cu, In e Ga, Meco collabora con la Solliance Initiative.
Specifiche tecniche
-Substrato: Pannello di vetro
-Strato di seme: Mo/Cu
-Dimensioni del substrato: 600 x 1.200 mm
-Spessore del substrato: da 2,8 a 3,5 mm
-Opzioni metalliche: Cu, In e Ga
-Capacità di produzione: 20 - 25 MW
-Sistema di contatto/trasporto unico e brevettato
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