Riscaldatore d'acqua PUR-X 2000

d'ariaa circolazioneantideflagrante

APPLICAZIONI: Processi di pulizia di wafer a semiconduttore (banco bagnato) Riscaldamento di solventi per la rimozione della fotoresistenza Riscaldamento dell'acqua DI per il risciacquo dei wafer Riscaldamento di aria e azoto per l'asciugatura dei wafer Riscaldamento di acidi, IPA, Piranha, NMP, ecc. Per l'uso con sistemi a passaggio singolo o a ricircolo CARATTERISTICHE E VANTAGGI: Il percorso del fluido non ha contatto con gli elementi di riscaldamento I media sono isolati nel tubo di flusso in PFA (Teflon®) (riscaldamento ad alta purezza) Permette il riscaldamento sicuro di liquidi e gas pericolosi Flow-Tube è sicuro per l'uso con molti solventi caustici Il tubo di flusso è sostituibile sul campo (nessuna chiamata di assistenza richiesta) Compatibile con i controlli standard (PID, PLC, Multi-Loop, ecc.) Il corpo è rivestito in Teflon® per la massima pulizia Tubi di flusso autodrenanti ed elementi di riscaldamento di lunga durata SPECIFICHE: Potenza: Da 5 kW totali a 7,9 kW totali Gamma di tensione: 200 - 480 V Corrente massima di linea: 30 A per circuito Tubi: .375" OD (3/8") (9,52 mm) .031" Parete (.80 mm) Lunghezza totale del tubo di processo: 325 " (8255 millimetri) PFA (PerFluoroAlkoxy) / Teflon® (standard) PFA ad alta purezza (aggiornamento opzionale) Pressione massima: 70 psi (4,82 bar) Corpo: Alluminio con rivestimento protettivo in Teflon® nero Involucri: NEMA 7 (a prova di esplosione) Temperatura massima di lavoro: 392°F (200°C) Sensori: Termocoppie tipo K o J Standard (Qtà. 3) 1 per controllo di processo 1 per protezione ad alto limite 1 per la protezione della temperatura del tubo Accessori disponibili: Giacche isolanti Raccordi a compressione