Macchina per deposizione ALD C30H ALD

di parylene

Ideale per test di laboratorio e produzione industriale di piccoli pezzi Perfettamente adatto per componenti 3D di forma complessa Deposizione ALD di Al2O3 e TiO2 Sorgente di plasma remota Pannello di gas con 4 precursori riscaldati di serie, altri su richiesta. Dimensioni complessive (L x P x A) - 2250 x 1160 x 1450 mm Peso - 350 kg Dimensioni della camera - ∅ 295 x 370 mm Dimensioni dell'utensile - ∅ 260 x 320 mm Carico massimo dell'utensile - 100 kg Capacità di carico del dimero - 150g Capacità di pompaggio - 40 m3/h Alimentazione richiesta - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Camera termalizzata - Intervallo di temperatura: 20 - 80°C Alimentazione: 3 x 400V + PE - 50Hz 3x 14A - 9kW Plasma remoto Sorgente - Frequenza: 1,7 - 3MHz Potenza: 3000W RF in situ capacitivo Sorgente di plasma - - Standard processabili materiali - Parylene: C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO Temperatura di processo temperatura - Parylene: temperatura ambiente ALD: 60-80°C