per materiali duri, per assottigliamento di wafers
Diametro esterno
200 mm (8 in)
Descrizione
Viene utilizzato per l'assottigliamento ad alta velocità di materiali fragili e duri come wafer di silicio, ceramica, vetro, cristalli di quarzo, zaffiro e altri materiali semiconduttori.
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.