Giunto rotante a 2 passaggi progettato per un attuatore di braccio robotico nella produzione di wafer. Progettato per l'integrazione nella base del robot e dotato di anello collettore elettrico per il trasferimento dati.
Specifiche del progetto personalizzato
Settore: Semiconduttori
Tipo di fluido: Altro
Ambiente: Camera bianca
Materiale: Acciaio inossidabile
Pressione massima: Vuoto
Velocità massima: 60 RPM
Numero di passaggi: 2
Dimensione passaggi: .094" [2.4 mm]
Through Bore: .500" [12.7 mm]
Diametro: 2.500" [63.5 mm]
Lunghezza: 2.614" [66.4 mm]
Progetti correlati (sommario)
Settore: Semiconduttori
Numero di passaggi: 2 passaggi
Dimensione del passaggio: Sotto 0.125" [3.18 mm]
Velocità di rotazione (RPM): 25 - 99 RPM
Pressione: Vuoto
Supporto: Altro
Materiale: Acciaio inossidabile
Through Bore: Sotto 1" [25.4 mm]
Ambiente: Camera bianca
Opzioni: Anello collettore
Caratteristiche / specifiche tecniche
Modello / Progetto: CS-05012
Settore: Semiconduttori
Materiale: Acciaio inossidabile
Ambiente: Camera bianca
Supporto: Altro (applicazione: attuatore di braccio robotico per produzione di wafer)
Numero di passaggi: 2
Dimensione del passaggio: .094" [2.4 mm]
Through Bore: .500" [12.7 mm]
Diametro complessivo: 2.500" [63.5 mm]
Lunghezza: 2.614" [66.4 mm]
Pressione massima: Vuoto
Velocità massima: 60 RPM
Caratteristiche: Progettazione specializzata integrata nella base del robot; anello collettore elettrico incluso per il trasferimento dati
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