La tavola rotante EZ-0779, con elevata capacità di carico assiale e movimento assiale/radiale con errore inferiore a 100 nm, è stata originariamente sviluppata per l'uso nella lavorazione dei wafer; è adatta a un'ampia gamma di applicazioni. La tavola rotante ad azionamento diretto è dotata di un potente motore torque raffreddato ad acqua. In opzione, è possibile integrare un passaggio rotante con un massimo di 6 canali aria/vuoto. Il sistema di misura (Numerik Jena RIK4) con 18.000 linee può essere fornito in opzione con un fattore di interpolazione di 5, 10, 50 o 100. Valori di interpolazione bassi consentono velocità più elevate, mentre valori di interpolazione più alti aumentano la ripetibilità. Non ci sono restrizioni per quanto riguarda la posizione di installazione.
Applicazioni: Rettifica di wafer, assottigliamento di wafer, sistemi di test, applicazioni con elevati requisiti di sincronizzazione e/o precisione di posizionamento
---