Sistema di posizionamento moduli combinati Z3TH
XYrotativoverticale

sistema di posizionamento moduli combinati
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Caratteristiche

Numero di assi
XY
Struttura
rotativo, verticale
Applicazioni
per ispezione Wafer e metrologia
Altre caratteristiche
moduli combinati

Descrizione

Il modulo combinato Z3TH sta ampliando la portata dei moduli che possono essere installati sulle piattaforme XY esistenti. Lo Z3TH, modulo a 4 gradi di libertà, offre una rotazione Theta di 364°, doppi assi Z, uno grossolano per il carico e lo scarico dei wafer e uno fine per la regolazione della messa a fuoco, oltre a una correzione di Tip e Tilt oltre ±0.1°. Questo modulo Z3TH è una valida alternativa agli attuatori Z piezoelettrici, eliminando l'isteresi e la non linearità in anello aperto e offrendo al contempo un migliore errore di inseguimento durante il movimento, la ripetibilità e le prestazioni di movimento e di assestamento per corse molto più lunghe. Il modulo Z3TH è dedicato principalmente al tipo di applicazioni front-end e fornisce la giusta soluzione per affrontare qualsiasi applicazione che lo richieda: - Allineamento tra uno strumento di processo e un substrato - Mappatura della planarità - Spostare e regolare il miglioramento Le prime applicazioni sono relative alla litografia di back-end e al controllo di processo dei wafer. Caratteristiche - 364° Rotazione Theta - Correzione di inclinazione e inclinazione su ±0,1° per il livellamento e per il miglioramento dei movimenti e degli assestamenti - Vuoto passante fino al livello del mandrino - Doppia integrazione Z: corsa grossolana per carico/scarico e corsa fine per la regolazione della messa a fuoco - Compatibilità camera bianca in classe 1 ISO - Basso runout radiale assiale e radiale di ±1 µm

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Fiere

Fiere a cui parteciperà questo venditore

BIEMH 2024
BIEMH 2024

3-07 giu 2024 Bilbao (Spagna) Hall 6 - Stand C-04

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