Spettrometro OES EXPEC-6500
ICP-OESICPda laboratorio

Spettrometro OES - EXPEC-6500 - Focused Photonics Inc. - ICP-OES / ICP / da laboratorio
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Caratteristiche

Tipo
OES, ICP-OES
Settore
da laboratorio, per alimenti, per acqua
Configurazione
da banco
Tipo di rilevatore
CCD
Altre caratteristiche
ad alta sensibilità, multicanale
Lunghezza d'onda

Min.: 160 nm

Max.: 900 nm

Lunghezza

930 mm
(36,61 in)

Larghezza

700 nm

Altezza

560 mm
(22,05 in)

Descrizione

Lo spettrometro EXPEC-6500 a plasma ottico accoppiato induttivamente adotta una tecnologia di osservazione a doppia torcia verticale di nuova concezione, in grado di misurare elementi con differenze di contenuto relativamente grandi in una matrice complessa matrice complessa. Lo spettrometro di emissione ottica al plasma ad accoppiamento induttivo EXPEC-6500 adotta una tecnologia di osservazione a doppia torcia verticale di nuova concezione, in grado di misurare elementi con differenze di contenuto relativamente grandi in una matrice complessa. L'alimentatore RF autoeccitato brevettato a stato solido garantisce un'eccellente adattabilità del sistema ai campioni e offre una modalità di standby a basso consumo che riduce notevolmente il consumo di argon. L'esclusivo sensore ECCD ad alta sensibilità a matrice di grande superficie ECCD, unico nel suo genere, offre prestazioni migliori al prodotto. Grazie all'esperienza pluriennale di EXPEC sériés nello sviluppo di strumenti di spettroscopia, il prodotto EXPEC-6500 ICP-OES offre un indice di stabilità RSD di 8 ore < 1% e un RSD di preci- pazione di un metodo standard interno gemello < 0,1%, garantendo così risultati di analisi stabili e affidabili. Una nuova generazione di torcia verticale a doppia tecnologia di osservazione. Il prodotto EXPEC-6500 adotta una tecnologia di osservazione a doppia torcia verticale di nuova concezione, che riduce notevolmente il consumo di argon e di torcia e può essere utilizzata per misurare elementi con differenze di contenuto relativamente grandi in una matrice complessa. La torcia verticale impedisce un'elevata deposizione del sait e l'osservazione radiale evita l'interferenza della matrice, consentendo di ottenere una migliore sensibilità e ripetibilità. L'innovativa tecnologia di osservazione verticale ad altezza regolabile consente di ottimizzare la posizione di osservazione per elementi diversi.

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