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Solvente di pulizia
per residui di incisione

Solvente di pulizia - Fujifilm NDT Systems - per residui di incisione
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Caratteristiche

Funzione
di pulizia
Applicazioni
per residui di incisione

Descrizione

Detergenti Detergenti acquosi per residui di cenere su leghe di alluminio e rame, strati antiriflesso, SiO2 e dielettrici a basso contenuto di K Detergenti acquosi per residui di post-cenere altamente efficaci per i processi BEOL di Al/SiO2 e Cu/low-k. Le applicazioni comprendono la rimozione dei residui di incisione a livello di via, linea metallica e bond pad su leghe di Al, strati antiriflesso e dielettrici SiO2 o la rimozione dei residui di incisione nei processi damascati con compatibilità Cu, low-k e ultra-low-k. - Ampia gamma di processi - Compatibile con applicazioni a spruzzo e in batch - Vantaggio convincente in termini di costi di gestione rispetto ai detergenti a base di solventi a base di idrossilammina (HA) - Risciacquo diretto con acqua DI - Eliminazione del costo dei prodotti chimici per il risciacquo con IPA - Aumento della produttività grazie all'eliminazione delle fasi di risciacquo con IPA - Sicuro e facile da usare - Eccellente compatibilità con i materiali delle apparecchiature di processo - Compatibilità superiore con metalli e ILD - Opzioni di confezionamento: - Bottiglia HDPE da 4 L - Fusto da 200 L - Rimozione dei residui di mordenzatura a livello di via, linea metallica e bond pad su leghe di Al, strati antiriflesso e dielettrici SiO2. - Rimozione dei residui di mordenzatura nei processi damascati con compatibilità con Cu, low-k e ultra low-k.

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