Il sistema di misurazione dello spessore Optical NanoGauge C12562 è un sistema di misurazione dello spessore del film senza contatto, compatto e poco ingombrante, progettato per essere facilmente installato nelle apparecchiature dove necessario. Nell'industria dei semiconduttori, la misurazione dello spessore del silicio è essenziale a causa della diffusione della tecnologia di passaggio attraverso il silicio; e nell'industria della produzione di film, i film dello strato di adesione vengono resi sempre più sottili per soddisfare le specifiche del prodotto. Questi settori richiedono quindi una precisione ancora maggiore nelle misure di spessore da 1 μm a 300 μm. Il C12562 consente di effettuare misure accurate in un ampio intervallo di spessori, da 500 nm a 300 μm, che comprendono lo spessore del film sottile di rivestimento e del substrato, nonché lo spessore totale. Il C12562 offre anche misure rapide fino a 100 Hz, rendendolo ideale per le misure su linee di produzione ad alta velocità.
Caratteristiche
Misure che vanno dallo spessore del film sottile allo spessore totale
Riduce il tempo di ciclo (max. 100 Hz)
Trigger esterni migliorati (per misure ad alta velocità)
Aggiunta al software della misura semplificata
Capacità di analisi della superficie
Misura precisa di film fluttuanti
Analisi delle costanti ottiche (n, k)
Controllo esterno disponibile
Principio di misura: interferometria spettrale
All'interno del film sottile si verificano riflessioni multiple quando la luce entra in un campione di film sottile. Queste onde luminose a riflessione multipla si rafforzano o si indeboliscono a vicenda con la loro differenza di fase. La differenza di fase di ciascuna luce a riflessione multipla è determinata dalla lunghezza d'onda della luce e dalla lunghezza del percorso ottico. Pertanto, lo spettro riflesso o trasmesso dal campione mostra uno spettro specifico determinato dallo spessore del film.
---