Macchina per deposizione CVD HCTE-VCM-003
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Caratteristiche
- Metodo
- CVD
Descrizione
Introduzione al prodotto:
La funzione del sistema di deposizione chimica da vapore è quella di depositare film sottili sul substrato, migliorare le proprietà del materiale, produrre dispositivi funzionali, ottenere la modifica della superficie, controllare con precisione lo spessore dei film sottili, migliorare la qualità del prodotto, contribuire alla ricerca e allo sviluppo di nuovi materiali, essere utilizzato nella produzione di circuiti integrati, ecc.
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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.