Hellma Materials CaF2 è stato utilizzato per molti anni come materiale ottico chiave nella microlitografia per la produzione di semiconduttori. CaF2 si è affermato come materiale standard industriale per le ottiche laser ad eccimeri nelle ottiche di proiezione e di illuminazione. Le proprietà ottiche uniche di CaF2 consentono una varietà di applicazioni avanzate.
Applicazioni
Grazie alla sua qualità ottica superiore e all'eccellente trasmittanza nelle gamme spettrali UV, VIS e IR, Hellma Materials CaF2 può essere utilizzato in applicazioni versatili:
Ottica IR
Ottica per strumentazione astronomica
Ottica spaziale
Ottica per microscopio
Spettroscopia ottica
Ottica UV
Finestre laser
Ottica laser a eccimeri
Ottica di microlitografia
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