Spettroscopio EV-140C

Questo monitor del punto finale del tipo ad analisi di emissione è destinato al rilevamento del punto finale o al controllo delle condizioni del plasma nel processo di film sottile a semiconduttore basato sul plasma. L'algoritmo Rapture Intensity di nuova concezione consente un rilevamento accurato dell'end-point catturando le deboli variazioni del segnale. La capacità di catturare sottili cambiamenti nell'emissione ha migliorato significativamente la sensibilità. La maggiore immunità ai disturbi garantisce un funzionamento estremamente stabile negli ambienti ostili delle linee di produzione 24 ore al giorno. Caratteristiche Reticolo luminoso con rapporto di apertura F/2 Un sistema ottico luminoso è ottenuto grazie all'impiego di un reticolo concavo di 70 mm di diametro, con correzione delle aberrazioni, prodotto da HORIBA Jobin Yvon. La capacità di raccogliere la luce del reticolo concavo stesso consente di costruire un sistema ottico semplice, più luminoso degli spettroscopi Czerny-Turner e in grado di ridurre al minimo la perdita di riflessione causata da specchi e altre superfici riflettenti. Sensore di linea CCD retroilluminato che offre un'elevata sensibilità e un'alta risoluzione di 2.048 canali Il CCD retroilluminato raggiunge un'elevata efficienza quantica, garantendo una spettroscopia stabile nell'ampio spettro che va dall'UV al visibile. La misura altamente sensibile possibile nella regione UV, in particolare, consente il rilevamento del punto finale nell'intervallo di lunghezze d'onda meno influenzato dalle interferenze. Software Sigma-P per il controllo avanzato del processo Questo software esegue una serie di operazioni necessarie per il controllo di processo, dall'analisi del comportamento del plasma alla creazione di database di dati misurati e al controllo remoto delle apparecchiature di produzione.