Sistema di posizionamento XY

rotativolasersottovuoto

8 Stazione Semi-conduttore Wafer Wafer Indexer Questo sistema è stato progettato specificamente per il trattamento a fascio ionico di wafer semiconduttori da 2″ o 3″ a temperature elevate. È costituito da un forno da tavolo con un sistema di alimentazione DC ad alta precisione e sistema di indicizzazione, che permette un controllo preciso della posizione dei wafer e permette la lavorazione in batch di 8 wafer per tiratura. I wafer vengono ruotati verso il riscaldatore e saranno riscaldati in pochi secondi prima che possa iniziare l'elaborazione del fascio ionico. La temperatura è controllata da un pirometro ottico che legge la temperatura superficiale del wafer riscaldato. Un'ampia porta di accesso consente il fissaggio della strumentazione a fascio ionico. Il forno è un sistema completo chiavi in mano con sistema a vuoto, sistema a gas inerte, servocomandi di indicizzazione, controlli di temperatura e raffreddamento ad acqua.