1, utilizzando la tecnologia di processo SENSA, brevettata negli Stati Uniti, per produrre wafer.
2, la consistenza del wafer è elevata, in base all'offset, al grado di campata, per un totale di 6 gradi. 3, buona concentrazione di caratteristiche di temperatura, entro 2mmHg di variazione in tutto l'intervallo di temperatura da 5 a 45 gradi.
4, non linearità, isteresi della pressione, isteresi della temperatura entro il 3‰.
5, uso multiplo della nostra catena industriale del grano di silicio, localizzazione dell'intera catena industriale, prestazioni ad alto costo.
---