Software di calibrazione Calibre® MPCpro
di sviluppodi progettazionedi modellizzazione

software di calibrazione
software di calibrazione
software di calibrazione
Aggiungi ai preferiti
Confronta con altri prodotti
 

Caratteristiche

Funzione
di calibrazione, di sviluppo, di progettazione, di modellizzazione, di verifica, di comando di processo, di dimensionamento
Applicazioni
di processo, ottico

Descrizione

La famiglia Calibre Mask Process Correction, composta da prodotti basati su regole e modelli, viene utilizzata nella produzione avanzata di fotomaschere per correggere le fonti di errore sistematiche della litografia della maschera e del processo, per garantire che la firma delle dimensioni critiche della maschera rientri nelle specifiche. Convalida della correzione del processo della maschera per la litografia di maschere multiraggio In questo articolo presentiamo un ciclo completo di calibrazione e verifica della MPC, utilizzando processi di maschera esistenti e collaudati in combinazione con un nuovo sistema MBMW. Prodotti Calibre per la correzione del processo di maschera I prodotti Calibre Mask Process Correction, basati su regole e modelli, offrono la migliore scalabilità e accuratezza della categoria per correggere le fonti di errore dal nanometro al centimetro per gli effetti di dispersione degli elettroni e di carico del processo. Gli strumenti avanzati di modellazione consentono di calibrare i modelli con una precisione di <1 nm.

---

Cataloghi

Altri prodotti Siemens EDA

IC Tool Portfolio

* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.