Diffusore di gas GasShield®

I diffusori di gas Mott Gasshield forniscono flussi di gas uniformi e laminari, riducendo al minimo il disturbo delle particelle. Rimuovono efficacemente le particelle superiori a 0,0015 μm, migliorando la qualità dei wafer, e offrono una durata di oltre 6.000.000 di cicli, rendendoli una scelta affidabile per la produzione di semiconduttori. Applicazioni tipiche I diffusori a camera sono utilizzati per lo sfiato nelle seguenti applicazioni: " camere di blocco del carico "Camere di trasferimento " camere di raffreddamento e " camere di processo di interfacce di apparecchiature per semiconduttori (CVD, PVD, Etch, Epi) o altre camere a vuoto Condizioni operative - " Pressione massima di esercizio: 60 psig (4,2 barg) " Temperatura massima di esercizio per gas inerte 860°F (460°C) senza o-ring 212°F (100°C) con o-ring " Pressione differenziale massima: 75 psid (5,0 bar) Materiali - " Hardware: SS 316L o lega 22* " Mezzo filtrante: Fibra SS 316L o Lega 22* " Finitura superficiale dell'hardware bagnato: 10 Ra *La Lega 22 o UNS NO6022 è una superlega di nichel-cromo-molibdeno comunemente chiamata Hastelloy® C-22® Specifiche - Dimensione di rimozione delle particelle - ≥ 0,0015 μm Spargimento di particelle: - Zero contributo di particelle al di sopra del fondo (<1 particella/ft³) secondo il metodo di prova SEMI F43-0308