Il sistema PhableR 100 si basa sulla tecnologia fotolitografica proprietaria PHABLE (abbreviazione di Photonics Enabler) sviluppata da Eulitha AG, che permette di stampare strutture periodiche ad alta risoluzione in un sistema fotolitografico di prossimità senza contatto. La risoluzione ottenuta con la PhableR 100 è essenzialmente la stessa di quella di un sistema di litografia a proiezione DUV, ma senza le complesse e costose ottiche e meccaniche. Per esempio, reticoli lineari con un mezzo passo di 150 nm possono essere stampati con alta uniformità con il nuovo sistema. Come ulteriore vantaggio, la profondità di fuoco praticamente illimitata dell'immagine formata dal sistema PhableR 100 significa che i modelli ad alta risoluzione possono essere stampati con alta uniformità anche su substrati non piani, che si incontrano comunemente nelle applicazioni fotoniche.
Il sistema PhableR 100 può esporre substrati con diametri fino a 100 mm utilizzando maschere standard del settore cromo su vetro o a spostamento di fase. La maschera e il substrato sono caricati manualmente sul sistema e il processo di esposizione è controllato da un computer a bordo. Si possono usare fotoresist standard i-line, sia di tono positivo che negativo, che sono disponibili dai comuni fornitori. Reticoli lineari o curvi, modelli di tipo 2D a cristalli fotonici con simmetria esagonale o quadrata possono essere stampati con periodi di caratteristiche inferiori a 300 nm. Il sistema può anche essere usato come una maschera-allineatore standard in modalità di prossimità o di contatto per stampare strutture su scala micrometrica.
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