Apparecchio di misura di angolo di contatto SURFTENS HL

di processoper l'industria dei semiconduttori

HL di SURFTENS - prova professionale del wafer in tecnologia dei semiconduttori Il metro SURFTENSHL di angolo di contatto è progettato per uso nell'industria e nella ricerca a semiconduttore, in particolare per controllo dei processi del rivestimento del wafer e nel processo fotolitografico. È caratterizzato dalle seguenti caratteristiche: misura veloce e facile dell'angolo di contatto, costruzione di economia di spazio costruzione speciale della tavola per il tracciato veloce della distribuzione di angolo di contatto sul wafer software con l'operazione intuitiva documentazione comoda dei risultati di misurazione nei protocolli e nelle immagini video, a richiesta calcolo di energia di superficie libera dalla teoria di Wu/di LAVORO uso facoltativo con il computer portatile o il PC HL di SURFTENS - applicazioni La modifica del comportamento di bagnatura delle lastre di silicio è un punto trattato standard in tecnologia dei semiconduttori. Per la caratterizzazione trattata, l'adeguamento dei parametri tecnologici ed il controllo della produzione. È necessario quindi assolutamente, misurare obiettivamente ed esattamente l'angolo di contatto e l'energia libera di superficie prima e dopo il processo di modifica. A questo fine uno strumento di misura robusto e di facile impiego di angolo di contatto è necessario. SURFTENSHL è stato sviluppato per soddisfare le esigenze in tecnologia dei semiconduttori e la ricerca l'operazione è semplice e per tutti possibili dopo un breve addestramento. L'operazione manuale assicura un prezzo attraente. SURFTENSHL è utilizzato così come pure in controllo dei processi standard come pure in ricerca e sviluppo.