Macchina per deposizione PVD
per polverizzazione catodica a magnetrontramite evaporazione ad arcoassistita da un fascio di ioni

macchina per deposizione PVD
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Caratteristiche

Metodo
PVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica a magnetron, tramite evaporazione ad arco, assistita da un fascio di ioni
Tipo di deposito
di film sottili
Altre caratteristiche
sottovuoto, a ciclo breve, in linea
Applicazioni
per il rivestimento di membrane

Descrizione

Attrezzatura di rivestimento anti-corrosione sotto vuoto di materiale magnetico (placcatura a rack) È adatto per la preparazione di rivestimenti anticorrosivi sulla superficie dei materiali magnetici, attraverso sputtering magnetron, evaporazione, arco elettrico, bombardamento di ioni, ecc, placcatura rapida di alluminio/lega, titanio, cromo e altri film di metallo sulla superficie del substrato, con alte prestazioni anticorrosione e forza vincolante dello strato di film, nessun inquinamento nel processo di produzione, ed evitando il residuo di soluzione galvanica che porta a difetti del prodotto. Forniamo attrezzature per il rivestimento di monomeri/polimeri dell'elettrodo della membrana della cella a combustibile a idrogeno, che possono soddisfare varie esigenze dall'esperimento alla produzione di massa.

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.