Impurità rimosse: O2, H2O, H2
- Processo di purificazione: adsorbimento + catalisi
- Principio: il gas passa attraverso uno speciale catalizzatore e uno strato adsorbente dove le impurità vengono rimosse.
- Principale campo di utilizzo: industria dei semiconduttori, gas di saldatura, gas di protezione..
Informazioni tecniche:
- Pressione: fino a 380 barg
- Livello di impurità in uscita: < 10 ppb
- Versione semiautomatica o automatica (HMI/PLC)
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