·Camera combinata di evaporazione e sputtering;
·Camera di evaporazione: evaporazione su un solo lato per il rivestimento di materiali evaporabili a bassa temperatura (Al, Li, ecc.);
·Camera di sputtering: 6 coppie di target rotanti, sostituibili con target planari;
·Camera di post-trattamento: disponibile per riscaldamento, raffreddamento, trattamento con gas e trattamento al plasma, ecc.
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