Spettrometro ICP-OES ARCOS

ad emissione otticaUVICP

La nuova doppia interfaccia laterale (DSOI) aumenta la sensibilità ed elimina i problemi di contaminazione/compatibilità con le matrici Uno strumento invece di due: L'unico strumento al plasma MultiView sul mercato: osservazione del plasma assiale e radiale (singola o doppia) in un unico strumento Sistema ottico ORCA: Acquisizione simultanea dello spettro nell'intervallo di lunghezze d'onda 130-770 nm con una sensibilità fino a 5 volte superiore rispetto ai sistemi basati su Echelle - offre le migliori prestazioni della categoria nell'intervallo UV/VUV Lo spettrometro a emissione ottica al plasma accoppiato induttivamente (ICP-OES) SPECTRO ARCOS eccelle nelle applicazioni industriali e accademiche per l'analisi elementare più avanzata di metalli, prodotti chimici, petrolchimici e altri materiali. Il meccanismo MultiView, privo di periscopio, consente all'operatore di "trasformare" letteralmente uno strumento a visione radiale in uno a visione assiale, o viceversa, in 90 secondi o meno. MultiView include ora la doppia osservazione laterale del plasma. Le due interfacce ottiche aggiungono sensibilità ed eliminano i problemi di contaminazione e compatibilità con la matrice. I rivelatori line-array, basati sulla tecnologia CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor), eliminano il blooming, leggono i segnali bassi degli elementi in traccia anche in prossimità delle linee intense della matrice, offrono un'elevata gamma dinamica ed eliminano il raffreddamento on-chip. Il design dello SPECTRO ARCOS garantisce costi operativi eccezionalmente bassi per una lunga e affidabile durata. Inoltre, il sistema è dotato di uno chassis moderno ed ergonomico e di caratteristiche comprovate come la tecnologia di purificazione dei gas sigillati UV-PLUS senza spurgo, il raffreddamento ad aria proprietario, il sistema di valvole intelligenti opzionale e la videocamera portatile per il monitoraggio a distanza.