Macchina per deposizione PVD Titan DepositionPECVDelettrostaticasottovuoto
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Caratteristiche
- Metodo
- PVD, PECVD, elettrostatica
- Altre caratteristiche
- sottovuoto
Descrizione
Il collaudato sistema di deposizione Titan Deposition è un sistema di deposizione loadlocked con elevatore a cassetta a vuoto. Può essere configurato per PECVD, HDCVD, PVD o ALD. La Titan Deposition fornisce processi innovativi e all'avanguardia con un ingombro ridotto ad un prezzo accessibile.
Sono stati sviluppati processi di produzione standard per la deposizione ripetibile di SiOx, SiNx, SiC e a-Si. Il tutto supportato da oltre 25 anni di esperienza nello sviluppo rapido dei processi.
Caratteristiche del sistema:
PLC e controllo touch screen
Mandrino elettrostatico o meccanico
Controllo attivo della temperatura del substrato
Ascensore a cassette a vuoto
Laser e punti finali ottici opzionali
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Cataloghi
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