Macchina per deposizione PVD Titan Deposition
PECVDelettrostaticasottovuoto

macchina per deposizione PVD
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Caratteristiche

Metodo
PVD, PECVD, elettrostatica
Altre caratteristiche
sottovuoto

Descrizione

Il collaudato sistema di deposizione Titan Deposition è un sistema di deposizione loadlocked con elevatore a cassetta a vuoto. Può essere configurato per PECVD, HDCVD, PVD o ALD. La Titan Deposition fornisce processi innovativi e all'avanguardia con un ingombro ridotto ad un prezzo accessibile. Sono stati sviluppati processi di produzione standard per la deposizione ripetibile di SiOx, SiNx, SiC e a-Si. Il tutto supportato da oltre 25 anni di esperienza nello sviluppo rapido dei processi. Caratteristiche del sistema: PLC e controllo touch screen Mandrino elettrostatico o meccanico Controllo attivo della temperatura del substrato Ascensore a cassette a vuoto Laser e punti finali ottici opzionali

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