Macchina per deposizione PVD NEXUS PVD-1

per evaporazione termicadi film sottiliper optoelettronica

Il NEXUS PVD-1 di Veeco è un sistema di deposizione fisica del vapore di un singolo wafer. È uno strumento versatile e facile da usare per molteplici applicazioni. Garantisce semplicità, affidabilità e prestazioni durante qualsiasi operazione. Il sistema può essere realizzato su misura per molteplici applicazioni di archiviazione dati come la deposizione di ossido e nitruro e la varietà di materiali magnetici. Può essere acquistato con un'ampia gamma di dimensioni di wafer e con uno strumento ad alte prestazioni ed economico per applicazioni di semiconduttori, GaAs e imballaggio. Questo sistema di deposizione fisica del vapore può essere facilmente modellato per soddisfare particolari esigenze di processo e di produzione. Supporta wafer di diverse dimensioni da 3" a 8" tondi. L'intero pacchetto comprende catodi, mandrini per wafer, collettori gas, serrande e gruppi di pompaggio. È progettato per una semplice e veloce integrazione con NEXUS Ion Beam Etch, Ion Beam Deposition e altri strumenti fisici per la deposizione di vapori. La modularità fornita semplifica le richieste di formazione dell'operatore e di manutenzione, nonché lo stoccaggio dei pezzi di ricambio.