Macchina per deposizione assistita da un fascio di ioni SPECTOR®

di film sottili

SPECTOR Loadlock Ion Beam Sputtering System Sputtering per rivestimento ottico Superiore produttività e ripetibilità per un'ampia gamma di applicazioni Il sistema SPECTOR® Loadlock Ion Beam Sputtering System di Veeco può fornire miglioramenti sostanziali della produttività per una varietà di applicazioni. In grado di iniziare la deposizione entro cinque minuti dal caricamento del substrato, il sistema SPECTOR Loadlock System può facilmente raddoppiare la produzione per progetti in cui il tempo di deposizione è più breve rispetto alle tipiche fasi di pre-processo richieste dagli utensili a lotti. La ripetibilità del sistema è migliorata anche grazie alla capacità di mantenere condizioni di stato stabile per parametri di processo quali pressione, temperatura, composizione della superficie bersaglio e potenza della sorgente ionica. Gli utenti SPECTOR Loadlock possono aspettarsi un miglioramento del tempo medio tra una manutenzione (MTBM) per componenti come i neutralizzatori a radiofrequenza, i rivestimenti della camera e la schermatura a causa della loro meno frequente esposizione all'atmosfera e all'umidità. Insieme, queste caratteristiche e vantaggi consentono agli utenti di produrre film della massima precisione e qualità disponibili sul mercato ad un costo molto inferiore. Aumento sostanziale della produttività per applicazioni di rivestimento a basso/medio spessore Migliore ripetibilità grazie a condizioni di processo intrinsecamente più stabili Aumento del tempo medio tra la manutenzione di diversi componenti chiave Miglioramento del controllo del particolato