Il magnete permanente esapolare per sorgente di ioni ECR è un assemblaggio a sei poli con struttura Halbach progettato per generare un campo magnetico radiale elevato e uniforme sulla parete interna della cavità di plasma, soddisfacendo i requisiti per la produzione stabile di fasci ionici multi-stato di carica.
Principio di progettazione- Configurazione Halbach a sei poli per produrre un campo radiale concentrato e uniforme nell'apertura di lavoro.
- Selezione di magneti permanenti NdFeB ad alte prestazioni (esempi: N45, N50M) per elevata remanenza e coercitività, a vantaggio della stabilità magnetica.
- Ottimizzazione dimensionale (diametri interno/esterno, spessore, disposizione dei settori) mirata all'uniformità del campo al raggio di riferimento R = 50 mm e alla riduzione delle componenti di ordine superiore.
Caratteristiche del prodotto- Prestazioni magnetiche stabili grazie all'ottimizzazione dei materiali e della geometria.
- Intensità del campo tarata sui requisiti delle sorgenti di ioni ECR alla parete interna della cavità di plasma.
- Opzioni di personalizzazione per geometria, grado del magnete e considerazioni termiche secondo le specifiche del cliente.
- Adatto a piattaforme sperimentali piccole e medie per fasci ionici multi-stato e a sistemi di impiantazione ionica.
Simulazione del campo magnetico e installazione- Simulazioni magnetiche con strumenti avanzati (esempi: POISSON, PERMAG, TOSCA) per calcolare la distribuzione del campo e supportare le scelte progettuali.
- Procedure professionali di assemblaggio, installazione e messa in servizio per garantire un allineamento preciso e stabilità a lungo termine; fornite linee guida per esercizio e manutenzione.
Caratteristiche / specifiche tecniche- Tipo di magnete: assemblaggio di magneti permanenti esapolari a struttura Halbach.
- Materiali magnetici: NdFeB (es. N45, N50M).
- Punto di valutazione progettuale: riferimento radiale R = 50 mm (uniformità e intensità del campo ottimizzate a questo raggio).
- Strumenti di simulazione: POISSON, PERMAG, TOSCA.
- Applicazioni tipiche: sorgenti di ioni ECR per generazione di fasci multi-stato, macchine di impiantazione ionica e relative piattaforme sperimentali piccole/medie.
- Personalizzazione: geometria, grado materiale e considerazioni termiche disponibili su richiesta.