Generatore plasma radiofrequenza eVerest RF

Generatore plasma radiofrequenza - eVerest RF - ADVANCED ENERGY
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Caratteristiche

Tipo
radiofrequenza

Descrizione

Mentre l'industria dei semiconduttori accelera verso un nuovo punto di inflessione, il generatore RF eVerest™ soddisfa l'esigenza di un controllo trasformativo del plasma. La sua pulsazione configurabile a più livelli consente una temporizzazione della transizione istantanea o definita dall'utente. Inoltre, la sintonizzazione della frequenza ad alta velocità e ad alta precisione basata sul modello, con un'ampia gamma di sweep di frequenza, garantisce una maggiore stabilità e controllo del processo. Queste funzionalità, oltre alla risposta più rapida al setpoint, all'overshoot controllato all'inizio degli stati di pulsazione e alla sofisticata intelligenza IoT di PowerInsight by Advanced Energy™, consentono di innovare i processi per il prossimo nodo tecnologico. - Sistema di erogazione RF completo, molteplici opzioni per le soluzioni di accoppiamento e sincronizzazione intelligente - Velocità e controllo all'interno di profili di impulsi multilivello programmabili - Risposta di uscita RF ad alta velocità e tempi di salita/discesa dello stato dell'impulso - Campo di sintonizzazione della frequenza fino a ±10% - Stabilità dP/dZ progettata - Ecosistema PowerInsight by Advanced Energy™ IoT - Consente lo sviluppo di nuovi processi per profili di deposizione e incisione < 2 nm - Fornisce un'accensione affidabile con stabilità RF indipendente dalla lunghezza del cavo - Si integra perfettamente in qualsiasi sistema al plasma - Aumenta lo spazio di processo e amplia la finestra di stabilità - Supportato da un'assistenza mondiale sui prodotti e sulle applicazioni da parte dei centri di assistenza locali

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.