Mentre l'industria dei semiconduttori accelera verso un nuovo punto di inflessione, il generatore RF eVerest™ soddisfa l'esigenza di un controllo trasformativo del plasma. La sua pulsazione configurabile a più livelli consente una temporizzazione della transizione istantanea o definita dall'utente. Inoltre, la sintonizzazione della frequenza ad alta velocità e ad alta precisione basata sul modello, con un'ampia gamma di sweep di frequenza, garantisce una maggiore stabilità e controllo del processo. Queste funzionalità, oltre alla risposta più rapida al setpoint, all'overshoot controllato all'inizio degli stati di pulsazione e alla sofisticata intelligenza IoT di PowerInsight by Advanced Energy™, consentono di innovare i processi per il prossimo nodo tecnologico.
- Sistema di erogazione RF completo, molteplici opzioni per le soluzioni di accoppiamento e sincronizzazione intelligente
- Velocità e controllo all'interno di profili di impulsi multilivello programmabili
- Risposta di uscita RF ad alta velocità e tempi di salita/discesa dello stato dell'impulso
- Campo di sintonizzazione della frequenza fino a ±10%
- Stabilità dP/dZ progettata
- Ecosistema PowerInsight by Advanced Energy™ IoT
- Consente lo sviluppo di nuovi processi per profili di deposizione e incisione < 2 nm
- Fornisce un'accensione affidabile con stabilità RF indipendente dalla lunghezza del cavo
- Si integra perfettamente in qualsiasi sistema al plasma
- Aumenta lo spazio di processo e amplia la finestra di stabilità
- Supportato da un'assistenza mondiale sui prodotti e sulle applicazioni da parte dei centri di assistenza locali
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