Mentre l'industria dei semiconduttori accelera verso un nuovo punto di inflessione, il generatore RF eVerest® soddisfa l'esigenza di un controllo trasformativo del plasma. La sua pulsazione configurabile a più livelli consente una temporizzazione della transizione istantanea o definita dall'utente. Inoltre, la sintonizzazione della frequenza ad alta velocità e ad alta precisione basata su modelli, con un'ampia gamma di sweep di frequenza, garantisce una maggiore stabilità e controllo del processo. Queste funzionalità, oltre a una risposta più rapida al setpoint, all'overshoot controllato all'inizio degli stati di pulsazione e alla sofisticata intelligenza IoT di PowerInsight by Advanced Energy™, consentono di innovare i processi per il prossimo nodo tecnologico.
Caratteristiche
Sistema di erogazione RF completo, molteplici opzioni per soluzioni di accoppiamento e sincronizzazione intelligente
Velocità e controllo all'interno di profili di impulsi multilivello programmabili
Risposta di uscita RF ad alta velocità e tempi di salita/discesa dello stato dell'impulso
Campo di sintonizzazione della frequenza fino a ±10%
Stabilità dP/dZ progettata
Ecosistema PowerInsight by Advanced Energy™ IoT
Vantaggi
Consente lo sviluppo di nuovi processi per profili di deposizione e incisione < 2 nm
Fornisce un'accensione affidabile con stabilità RF indipendente dalla lunghezza del cavo
Si integra perfettamente in qualsiasi sistema al plasma
Aumenta lo spazio di processo e amplia la finestra di stabilità
Supportato da un'assistenza mondiale sui prodotti e sulle applicazioni da parte dei centri di assistenza locali
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