Sorgente di plasma remoto Xstream

L'efficientissimo Xstream® RPS dissocia grandi volumi di NF3 e pulisce rapidamente le camere, migliorando le prestazioni complessive dell'utensile. La sua camera al plasma presenta una lega di alluminio ad alta purezza e capacità di raffreddamento brevettate. Costruito per durare anni senza bisogno di riparazioni o rivestimenti costosi della camera, l'RPS Xstream è la scelta intelligente per affidabilità e prestazioni efficienti. - L'RPS altamente affidabile massimizza il tempo di attività dello strumento - Efficace trasporto delle specie reattive alla camera di processo per migliorare le prestazioni - Sorgente di plasma accoppiato a trasformatore (TCP) con rete di corrispondenza attiva (AMN) integrata - Frequenza operativa da 225 kHz a 660 kHz - Modelli di potenza da 8 kW/10 kW - Eliminazione dei costosi rivestimenti della camera con lega di alluminio personalizzata e anodizzazione dura di tipo III - Miglioramento delle prestazioni e della durata della camera grazie a un sistema di raffreddamento che riduce al minimo lo stress termico - Aumento dell'efficienza e miglioramento dell'erogazione di potenza al plasma con una rete di accoppiamento attivo (Active Match Network) - Controllo preciso della potenza e dei processi grazie alle misurazioni del plasma in tempo reale - Ottenere un'accensione del plasma affidabile e riproducibile grazie a un sistema di accensione brevettato