video corpo

Macchina per deposizione PVD HELIOS series
per polverizzazione catodica a magnetrondi film sottiliper optoelettronica

Macchina per deposizione PVD - HELIOS series - Bühler Leybold Optics - per polverizzazione catodica a magnetron / di film sottili / per optoelettronica
Macchina per deposizione PVD - HELIOS series - Bühler Leybold Optics - per polverizzazione catodica a magnetron / di film sottili / per optoelettronica
Macchina per deposizione PVD - HELIOS series - Bühler Leybold Optics - per polverizzazione catodica a magnetron / di film sottili / per optoelettronica - immagine - 2
Aggiungi ai preferiti
Confronta con altri prodotti

Vuoi acquistare direttamente?
Vai sul nostro Shop.

Caratteristiche

Metodo
PVD
Tecnologia
per polverizzazione catodica a magnetron
Tipo di deposito
di film sottili
Applicazioni
per optoelettronica

Descrizione

La serie di HELIOS delle ottica di Bühler Leybold è un rivestimento di sottili pellicole veloce, preciso e completamente automatizzato flessibile della piattaforma per. È progettata e particolarmente è costruita per i rivestimenti ottici di alta qualità che caratterizzano i disegni specializzati del filtro da realizzare con alto rendimento ed alto rendimento. Gli strati estremamente densi, regolari, stechiometrici ed amorfi assicurano la prestazione ottica senza pari. Il sistema di controllo ottico per le misure in situ del su-substrato facilita l'ultima precisione nel controllo di spessore di strato. Qualità eccezionale di strato e di rendimento La tecnologia avanzata del magnetron reattivo plasma-aiutato che polverizza (PARMS) permette il deposito dei rivestimenti dielettrici dagli obiettivi del metallo, aiutato da una fonte del plasma di radiofrequenza (rf) con un alto tasso di deposito per alto rendimento che provoca i prodotti superiori del grado con alta precisione alla scala atomica ed all'alto rendimento. Durante l'ogni rotazione, uno strato secondario-stechiometrico sottile dell'ossido è depositato dal magnetron doppio selezionato ed è trasferito ad uno strato non-assorbente dell'ossido mentre passa il plasma dell'ossigeno della fonte di rf. Questo metodo assicura le perdite più basse ed i risultati perfetti di stechiometria - anche quando polverizzando dagli obiettivi del metallo. Il controllo ottico facilita l'alta stabilità di produzione Il controllo ottico in situ del su-substrato diretto è effettuato su un modo intermittente usando un vetro della prova ad una delle posizioni del substrato all'interno della piattaforma girevole girante. Ciò provoca la stabilità di produzione e la ripetibilità estremamente alte del rivestimento. La piattaforma girevole girante veloce permette la produzione molto degli strati sottili di alcuni nanometri ed alta esattezza.

---

Cataloghi

Nessun catalogo è disponibile per questo prodotto.

Vedi tutti i cataloghi di Bühler Leybold Optics
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.