Sistema laser per drogaggio SolarLase-G3SE

di potenza

Dimensione del wafer: 156-166 mm Funzione: Doping laser SE Piattaforma: Piattaforma girevole e scanner galvanico Telecamera ad alta precisione per l'allineamento SolarLase-G3SE è un sistema di drogaggio laser SE per la produzione di celle solari c-Si ad alta efficienza a 7000+WPH. La sua piastra ottica in granito termicamente stabile può ospitare due laser da 532 nm, ciascuno con il proprio percorso di emissione indipendente. I percorsi di emissione del fascio sono flessibili e consentono di regolare il diametro del fascio, la potenza del laser e il controllo dell'otturatore. La piastra ottica in granito è essenziale per garantire prestazioni ottiche e meccaniche stabili. SolarLase-G3SE è un sistema laser sicuro di Classe I ed è inoltre dotato di un sistema di rimozione dei detriti per mantenere pulito il pezzo da lavorare. SolarLase-G3SE offre eccellenti capacità di allineamento dei wafer, poiché le celle c-Si ad alta efficienza di nuova generazione richiedono un allineamento sempre più preciso rispetto al passato. Le telecamere ad alto ingrandimento sono in grado di rilevare con precisione i bordi o i segni sul wafer, consentendo una sovrapposizione precisa dei modelli scritti al laser tra due fasi di lavorazione successive. Il software applicativo di SolarLase-G3SE offre un'interfaccia utente facile da usare, che consente la creazione, la modifica, il salvataggio e il caricamento di ricette, rendendo la lavorazione dei wafer estremamente efficiente. Per ogni sistema SolarLase-G3SE, valutiamo i requisiti e i piani specifici del cliente, in modo da poter personalizzare lo strumento per adattarlo al meglio alle sue esigenze.