PanoramicaIl Gasboard-2060 è un sensore di gas SiF4 ad alte prestazioni progettato per il rilevamento in tempo reale del punto finale di pulizia (EPD) nelle camere di deposizione CVD a base di silicio. Basato sulla tecnologia a infrarossi non dispersiva (NDIR) e dotato di una camera del gas appositamente progettata, fornisce misurazioni altamente selettive e precise della concentrazione di SiF4 nei processi di pulizia delle camere. Il Gasboard-2060 monitora la concentrazione di SiF4 in tempo reale, consentendo un'indicazione rapida e precisa del punto finale di pulizia per ridurre i tempi di pulizia e il consumo di gas, minimizzando l'usura della camera e prolungando la vita utile dei componenti. Il design modulare facilita l'installazione e supporta funzioni di calibrazione e regolazione per una comoda integrazione e manutenzione.
Caratteristiche- Tecnologia NDIR per una misurazione sensibile e accurata del SiF4.
- Risposta rapida per una determinazione precisa del punto finale di pulizia della camera di deposizione.
- Bassa deriva dello zero e alta ripetibilità per prestazioni di misura costanti.
- Design modulare per una facile integrazione e installazione del sistema.
- Uscite di comunicazione analogiche e digitali per un'interfaccia flessibile.
SpecificheMisura: SiF4
Principio di rilevamento: NDIR
Intervallo: (0.0-0.2) Absorbance
Tempo di risposta: T90<2s
Frequenza di segnalazione dati: 0.5s
Uscita analogica: 1-10VDC
Alimentazione: 15VDC (≤300mA), 24VDC
Comunicazione digitale: RS232
Porta di campionamento: KF16
Dimensioni: 200×120×75.5mm
Tasso di perdita: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
Temperatura di esercizio: (5~65) ℃
Specifiche tecniche- Misura: SiF4
- Principio di rilevamento: NDIR
- Intervallo: (0.0-0.2) Absorbance
- Tempo di risposta: T90<2s
- Frequenza di segnalazione dati: 0.5s
- Uscita analogica: 1-10VDC
- Alimentazione: 15VDC (≤300mA), 24VDC
- Comunicazione digitale: RS232
- Porta di campionamento: KF16
- Dimensioni: 200×120×75.5mm
- Tasso di perdita: <1×10-8 Pa·m3/s (He)
- Temperatura di esercizio: (5~65) ℃