Sistema laser a femtosecondi FemtoLux 3

a fibrainfrarossoaccordabile

Il FemtoLux 3 è un moderno laser a fibra femtosecondo progettato sia per la ricerca e lo sviluppo che per l'integrazione industriale. Fornisce una potenza di uscita di 3 W e consente l'ottimizzazione dei parametri laser per applicazioni come la marcatura e la strutturazione volumetrica di materiali trasparenti, la fotopolimerizzazione, l'imaging biologico, la microscopia non lineare e altro ancora.

Caratteristiche

• A 1030 nm: potenza di uscita tipica di 3 W, fino a 3 μJ/impulso e 10 μJ/raffica
• A 515 nm: potenza di uscita tipica di 1,2 W, fino a 1,2 μJ/impulso e 5 μJ/raffica
• < 300 fs … 5 ps durata dell'impulso regolabile
• M² < 1,2
• Capacità versatili di controllo e sincronizzazione del laser
• Fino a 10 MHz di frequenza di ripetizione dell'impulso
• Attivazione intelligente per operazioni sincrone con scanner poligonale e PSO
• Controllo istantaneo dell'ampiezza
• Raffreddamento passivo ad aria della testa laser
• Operatività 24/7

Applicazioni

• Marcatura del volume interno di materiali trasparenti
• Marcatura e strutturazione
• Microlavorazione di materiali fragili
• Fotopolimerizzazione
• Chirurgia oftalmologica
• Imaging biologico
• Pompaggio di OPO/OPA femtosecondo
• Microscopia

Il FemtoLux 3 offre una durata dell'impulso regolabile da 300 fs a 5 ps, una frequenza di ripetizione dell'impulso regolabile fino a 10 MHz e un'energia dell'impulso regolabile fino a 3 μJ, consentendo l'ottimizzazione per una vasta gamma di applicazioni. Il laser può essere equipaggiato con un modulo di seconda armonica per espandere ulteriormente il suo campo di applicazione. Con la modalità raffica abilitata, può generare raffiche di impulsi con energia superiore a 10 μJ, migliorando significativamente l'efficienza del processo. La sua testa laser rigida, compatta e raffreddata passivamente ad aria consente l'integrazione con vari apparecchi per la micro-lavorazione dei materiali, la microscopia o altri scopi di ricerca.

Specifiche

• Lunghezza d'onda centrale: 1030 nm (fondamentale), 515 nm (con opzione seconda armonica)
• Durata minima dell'impulso (FWHM) a 1030 nm: < 300 fs (tipico ~230 fs)
• Gamma di regolazione della durata dell'impulso: 300 fs – 5 ps
• Potenza media di uscita massima: > 3 W a 1030 nm, > 1,2 W a 515 nm
• Stabilità a lungo termine della potenza (Dev. std.): ≤ 0,5 %
• Energia massima dell'impulso: > 3 µJ a 1030 nm, > 1,2 µJ a 515 nm
• Stabilità dell'energia dell'impulso (Dev. std.): < 2 %
• Frequenza di ripetizione dell'impulso (PRR): 1 – 10 MHz
• Frequenza di ripetizione dell'impulso (PRF) dopo il divisore di frequenza: PRF = PRR / N, N=1, 2, 3, … , 65000; singolo scatto
• Gating dell'impulso esterno: tramite ingresso TTL
• Modalità raffica: 1 – 10 impulsi
• Energia massima della raffica: > 10 µJ a 1030 nm, > 5 µJ a 515 nm
• Controllo della forma della raffica: tramite ingresso analogico
• Attenuazione della potenza: 0 – 100 % dall'applicazione di controllo remoto o tramite ingresso analogico
• Orientamento della polarizzazione: lineare, verticale
• Rapporto di estinzione della polarizzazione: > 1000:1
• M²: < 1,2
• Divergenza del fascio (angolo totale): < 1,0 mrad
• Ellitticità del fascio (campo lontano): > 0,85
• Stabilità del puntamento del fascio (pk-to-pk): < 30 µrad
• Diametro del fascio (1/e²) a 20 cm dall'apertura del laser: 2,0 ± 0,3 mm a 1030 nm, 1,0 ± 0,2 mm a 515 nm
• Raffreddamento della testa laser: aria, passivo
• Dimensioni della testa laser (L×W×H): 459,5 × 362 × 111 mm a 1030 nm, 615,3 × 362 × 139 mm a 515 nm
• Dimensioni dell'unità di alimentazione (L×W×H): 496 × 483 × 184 mm (autonomo), 548 × 483 × 184 mm (montabile su rack 19″)
• Lunghezza dell'ombelicale: 5 m
• Requisiti di alimentazione: 100 – 240 V AC, monofase 47 – 63 Hz
• Consumo massimo di potenza: < 500 W
• Temperatura ambiente di funzionamento: 15 – 30 °C
• Umidità relativa: 10 – 80 % (non condensante)
• Livello di contaminazione dell'aria: ISO 9 (aria ambiente) o migliore
• Classificazione secondo EN60825-1: prodotto laser di CLASSE 4