Sistema di fotolitografia UV-NIL UV/EVG®620 NT

Nota per la sua flessibilità e affidabilità, l'EVG620 NT offre una tecnologia di allineamento delle maschere all'avanguardia con un ingombro minimo. Il software intuitivo per l'operatore, il tempo minimo per il cambio della maschera e degli utensili, così come l'efficiente servizio di assistenza in tutto il mondo, li rende la soluzione ideale per qualsiasi ambiente di ricerca e sviluppo fino alla produzione semi-automatica a volume. Lo strumento supporta una varietà di processi litografici standard, come la modalità di esposizione sottovuoto, morbida, dura e di prossimità e l'opzione di allineamento posteriore. Inoltre, il sistema offre funzionalità aggiuntive per configurazioni multiuso, tra cui l'allineamento dei legami e la litografia nanoimpronta. Inoltre, la tecnologia proprietaria SmartNIL dell'EVG è supportata sia su configurazioni di sistema semiautomatizzate che completamente automatizzate. SmartNIL è la tecnologia NIL leader del settore, che consente di realizzare modelli di elementi estremamente piccoli fino a meno di 40 nm*, nonché un'ampia gamma di dimensioni e forme delle strutture. SmartNIL, in combinazione con la tecnologia multiuso a timbro morbido, consente una produttività ineguagliabile con notevoli vantaggi in termini di costi di gestione, pur mantenendo la scalabilità e la facilità di manutenzione. SmartNIL di EVG mantiene la promessa a lungo termine che la nanoimprinting è una tecnologia di litografia alternativa a basso costo e ad alto volume per la produzione di massa di strutture su micro e nanoscala. *risoluzione dipendente dal processo e dal modello