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Resina di protezione Durimide® 20 series

Resina di protezione - Durimide® 20 series  - Fujifilm NDT Systems
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Caratteristiche

Applicazioni
di protezione

Descrizione

Fujifilm ha diverse formulazioni di poliimmide non fotosensibili per un'ampia varietà di semiconduttori e applicazioni correlate. - Spessori di rivestimento finale da 400 Angstrom a 25 micron - Opzioni di polimerizzazione a bassa temperatura - Restringimento molto basso - Modellabile con metodi diretti al laser o all'incisione - Senza NMP Riepilogo del prodotto - Serie Durimide® 20: Poliammide completamente imidato usato principalmente come strato sottile di sollevamento. Durimide 20 è stabile a temperatura ambiente. Sono possibili spessori finali da 400 angstrom a 3 micron - LTG 12-52: Colla a bassa temperatura progettata per lo stampo e il componente attacca le applicazioni. spessori finali da 5 a 25 micron.

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