Macchina per deposizione PVD HD500

Panoramica del prodotto
L'HD500 è basato su una piattaforma di tecnologia di rivestimento composito che integra sputtering magnetron ad alta ionizzazione (HiPIMS) e deposizione a arco multi-arco in un unico processo. Produce film sottili versatili per materiali difficili da rivestire come acciai inossidabili e leghe di titanio, contribuendo ad aumentare la vita utile dei componenti. Il sistema è adatto per produzione su piccola scala e sviluppo di processo.

Vantaggi principali

• Incisione laterale con sorgente ionica a filamento caldo: fornisce incisione laterale uniforme, controllo dei sottosquadri e manutenzione semplificata.
• Sputtering magnetron HiPIMS composito: magnetron DC + HiPIMS garantiscono elevati tassi di deposizione fornendo l'energia ionica necessaria per elementi refrattari (Nb, B, C, W, V) e un'ampia gamma di materiali di rivestimento.
• Sorgente multi-arco ottimizzata per plasma: tre gruppi di sei target circolari multi-arco con accensione dell'arco nascosta per funzionamento affidabile e manutenzione agevole; consente deposizione multi-elemento e multi-strato con superfici di film lisce e alto utilizzo dei target.
• Più piattaforme di deposizione su un unico telaio: DC MS + HiPIMS MS + deposizione ionica multi-arco permettono processi di rivestimento singoli, compositi e misti nello stesso lotto.

Parametri del prodotto
Nome: HD500
Tecnologia di rivestimento: Tecnologia di rivestimento composito (sputtering ad alta ionizzazione + composito ad arco)
Incisione: Sorgente ionica laterale (filamento caldo)
Sorgenti multi-arco (numero): 6
Catodi magnetron (numero): 1
Dimensioni apparecchiatura (mm): 3400 × 1600 × 2600
Volume camera (m³): 0.7
Area di rivestimento efficace (mm): Φ410 × 400
Temperatura massima di lavoro (°C): 700
Capacità di carico (numero di alberi): 5
Carico utensili (APMT1135): 6000 pcs
Capacità carico utensili su asta (D4*50L): 1800 pcs
Peso massimo carico (kg): 300
Diametro albero: Φ130
Tempo di processo (AlTiN): 6-8 h

Specifiche tecniche

• Modello / Serie: HD500 (serie HD)
• Tecnologia di rivestimento: Sputtering composito ad alta ionizzazione + arco
• Metodo di incisione: Sorgente ionica laterale (filamento caldo)
• Sorgenti multi-arco: 6 (3 gruppi di 6 target circolari)
• Catodi magnetron: 1
• Dimensioni apparecchiatura: 3400 mm × 1600 mm × 2600 mm
• Volume camera: 0.7 m³
• Area di rivestimento efficace: Φ410 × 400 mm
• Temperatura massima di lavoro: 700 °C
• Capacità di carico: 5 alberi
• Carico utensili (APMT1135): 6000 pcs
• Capacità utensili su asta (D4*50L): 1800 pcs
• Peso massimo carico: 300 kg
• Diametro albero: Φ130
• Tempo di processo tipico (AlTiN): 6-8 h