Macchina per deposizione PECVD

di strati sottili di silicioper applicazioni fotovoltaiche

Sulla superficie del wafer di silicio viene depositato uno strato di film di nitruro di silicio antiriflesso (SixNy) con uno spessore di circa 75-140 nm Sulla superficie del wafer di silicio viene depositato uno strato di film di nitruro di silicio antiriflesso (SixNy) con uno spessore di circa 75-140 nm e la superficie e l'interno del wafer di silicio vengono passivati utilizzando gli ioni H+ attivi generati durante il processo di deposizione. Oltre a ridurre la riflessione della luce, migliora anche la vita dei portatori minoritari dei wafer di silicio, che si riflette direttamente sull'efficienza di conversione delle celle di silicio cristallino, utilizzate principalmente nella crescita dei film di nitruro di silicio sulla parte anteriore e posteriore delle celle PERC/TOPCon. Parametri principali Processo maturo ad alta capacità, tecnologia di controllo della temperatura a doppia modalità, tecnologia di protezione del calibro del film; Il meccanismo brevettato push-pull supportato da entrambe le estremità può eliminare il jitter, aumentare la velocità del 30%, aumentare la capacità di carico e migliorare notevolmente l'affidabilità. Il tempo per entrare e uscire dalla barca non supera i 20 secondi (escluse le operazioni di prelievo e posizionamento della barca); Raffreddamento rapido del corpo del forno: la più recente tecnologia brevettata fa sì che la temperatura del corpo del forno scenda rapidamente alla temperatura richiesta, la velocità di raffreddamento è aumentata di oltre il 25%, il che può migliorare l'uniformità della temperatura nel tubo del forno; Metodo brevettato di dissipazione parallela del calore della posizione di stoccaggio dell'imbarcazione: migliora l'effetto di raffreddamento, accorcia il tempo di raffreddamento di oltre il 15% ed evita la presa d'aria dal fondo della parte anteriore della console per migliorare la pulizia interna della console; Tecnologia di controllo adattiva ad anello chiuso della pressione;