Spalmatrice automatica PECVD (SiNx)
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Caratteristiche
- Specificazioni
- automatica
Descrizione
Questa macchina è progettata per applicare il rivestimento antiriflesso alla superficie dei wafer di silicio cristallino per ridurre la riflessione e massimizzare l'efficienza delle celle.
Specifiche
Alta produttività: 6.776 wafer/ora (640 wafer/barca)
Tempo di ciclo: 34 minuti
Tempo di attività: 97%
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Cataloghi
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