Spalmatrice automatica PECVD (SiNx)
Aggiungi ai preferiti
Confronta con altri prodotti
Caratteristiche
- Specificazioni
- automatica
Descrizione
Questa macchina è progettata per applicare il rivestimento antiriflesso alla superficie dei wafer di silicio cristallino per ridurre la riflessione e massimizzare l'efficienza delle celle.
Specifiche
Alta produttività: 6.776 wafer/ora (640 wafer/barca)
Tempo di ciclo: 34 minuti
Tempo di attività: 97%
---
Cataloghi
Nessun catalogo è disponibile per questo prodotto.
Vedi tutti i cataloghi di HANWHA MACHINERY
Ricerche correlate
* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.