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Macchina per deposizione T-aSi (Oxidation + a-Si)
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Descrizione
Questo sistema viene utilizzato per la deposizione in situ di ossidi e poli per la cella TOPCon che consente la cattura selettiva degli elettroni migliorando il tasso di ricombinazione.
Spec
Alta produttività: 4.702 wafer/ora (640 wafer/barca)
Tempo di ciclo: 49 minuti
Tempo di attività: 97%
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Cataloghi
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