Sistema di misurazione di birifrangenza Exicor® DUV series

Il Exicor® DUV e 193 sistemi di DUV misura la birifrangenza alle lunghezze d'onda ultraviolette profonde. Il 2003 ?il premio di R & S 100? che vince il sistema di Exicor DUV è stato sviluppato per valutare la birifrangenza intrinseca in materiali dell'obiettivo del fluoruro del calcio (CaF2) alla lunghezza d'onda di applicazione di 157 nanometro. Il Exicor successivo 193 fuochi di DUV su una varietà di materiali utilizzati in 193 sistemi litografici di nanometro, particolarmente immersione 193 sistemi di litografia di nanometro che richiedono l'ottica più di alta qualità. Entrambi sistemi soddisfano la misura alla lunghezza d'onda del principio di uso richiesta dai fornitori ottici dei materiali di precisione che stanno spingendo la busta di tecnologia. I sistemi DUV e 193DUV di Exicor sono i sistemi primari usati dal industryoptics principale di litografia produce per misurare la birifrangenza nei materiali dello spazio in bianco dell'obiettivo e negli spazii in bianco del photo-mask alle lunghezze d'onda litografiche di DUV (157 nanometro, 193 nanometro, 248 nanometro). Questi sistemi sono sviluppati con una struttura robusta ed i componenti resistenti di controllo di movimento per ottica di misurazione un X.400 millimetro da fino a 400 millimetri e 200+ millimetro a strati. Il sistema di Exicor DUV inoltre utilizza un sistema localizzato unico di spostamento dell'ossigeno nell'alloggiamento del campione perché una luce UV da 157 nanometri è assorbita dalle molecole dell'ossigeno. Questo ambiente eliminato l'inceppo azoto asciutto pulito inoltre evita la generazione di ozono nell'alloggiamento del campione di DUV. L'eliminazione dell'inceppo non è richiesta per 193 di nanometro 248 e di nanometro misure. La grande fase di esame di questi sistemi inoltre tiene conto parti multiple di caricamento le più piccole sulla fase, con il software facoltativo di Exicor Macro+ che esegue le procedure automatizzate per esplorare individualmente ogni parte.