Sistema a fascio ionico focalizzato NX9000

Il nuovo sistema FIB-SEM di Hitachi, l'NX9000, incorpora un layout ottimizzato per una vera e propria sezione seriale ad alta risoluzione per affrontare le più recenti richieste di analisi strutturale 3D e per le analisi TEM e 3DAP. Il sistema FIB-SEM NX9000 consente la massima precisione nell'elaborazione dei materiali per un'ampia gamma di aree relative a materiali avanzati, dispositivi elettronici, tessuti biologici e una moltitudine di altre applicazioni. - La colonna SEM e la colonna FIB sono disposte ortogonalmente per ottimizzare il posizionamento della colonna per l'analisi strutturale 3D. - La combinazione di una sorgente di elettroni a emissione a campo freddo ad alta luminosità e di ottiche ad alta sensibilità supporta l'analisi di un'ampia gamma di materiali, dai tessuti biologici ai materiali magnetici. - Il sistema di microcampionamento e il sistema a triplo fascio consentono una preparazione del campione di alta qualità per applicazioni TEM e con sonda atomica. Fresatura ionica e osservazione a incidenza normale in tempo reale per un vero imaging analitico La colonna SEM e la colonna FIB sono disposte ortogonalmente per realizzare l'imaging SEM a incidenza normale delle sezioni trasversali FIB. La disposizione ortogonale delle colonne elimina la deformazione dell'aspetto, lo scorciamento delle immagini trasversali e lo spostamento del campo visivo (FOV) durante l'imaging di sezioni seriali, che non possono essere evitati dai sistemi FIB-SEM convenzionali. Le immagini dell'NX9000 consentono un'analisi strutturale 3D estremamente accurata. La microscopia ottica correlativa può essere applicata facilmente grazie al vantaggio dell'imaging EM superficiale-planare. Tagliare e vedere Cut & See supporta l'imaging ad alta risoluzione e ad alto contrasto di tessuti biologici, semiconduttori e materiali magnetici, come acciaio e nichel, a basse tensioni di accelerazione.